Korrekciós lenyomatanyag A-szilikon rendszerekhez. Magas dimenzióstabilitás és thixitropia, könnyű kezelhetőség jellemzi. Az anyag egyaránt alkalmazható egyidejű kétfázisú, illetve kétidejű kétfázisú technikához is. A megfelelő konzisztencia biztosítja az anyag egyszerű és könnyű applikációját az adott felszínekre.